Części chipowe, czyste cynowanie; system kwasu alkilosulfonowego, matowe, czyste cynowanie FI-SMD
Proces galwanicznego cynowania matowego w systemie kwasu alkilosulfonowego. Specjalnie stosowany do galwanizacji części chipowych. Proces charakteryzuje się dobrą zdolnością dyspersji i głębokiego pokrywania.
FI-SMD Sn Stęż. 25~60ml/L
FI-SMD C.S 120~180ml/L
FI-SMD A.S 50~100g/L
FI-SMD A 40~100ml/L
Temp. 18~40℃